管式PECVD如何退火 氮化硅薄膜工艺参数最佳?
管式PECVD如何退火 氮化硅薄膜工艺参数最佳?,摘要:研究了在真空与氮气两种环境中不同的退火温度和退火时间对氮化膜薄膜性能影响,测试了退火后氮化硅薄膜的膜厚、折射率、少子寿命以及电性能参数。结果表明...,国际太阳能光伏网
管式PECVD如何退火 氮化硅薄膜工艺参数最佳?,摘要:研究了在真空与氮气两种环境中不同的退火温度和退火时间对氮化膜薄膜性能影响,测试了退火后氮化硅薄膜的膜厚、折射率、少子寿命以及电性能参数。结果表明...,国际太阳能光伏网